扬州欣达电子有限公司

【技术文章】薄膜制备环境-超净工作间标准与级别 2014-03-10

在洁净的环境下制备薄膜，是保证薄膜质量的关键技术之一。净化间的定义最初是由美国开发的联邦标准209版(Federal Standard 209)。后来发展为以单位体积中存在一定直径以上的颗粒数为基础的净化间级别的定义。净化间级别的米制版如表4一18所列。图4...

【技术文章】薄膜制备的环境-尘埃与针孔 2014-03-05

【技术文章】薄膜图形加工的主要方法 2014-02-28

在基板表面上形成所要求的薄膜图形的方法大致有以下三种: (1)用丝网印制术印制或者用感光树脂(光刻胶)在基板表面上形成负图像，然后采用真空蒸镀、溅射、CVD等方法进行全表面镀膜，接着把基板浸泡在溶解负像物质的溶剂中，这样在把形成负像物质泡胀溶解的同时，...

【技术文章】什么是薄膜-陶瓷基片 2014-02-25

氧化铝和镁橄榄石等绝缘性陶瓷，即使在高温条件下对高频电力也具有优异的绝缘电阻、耐压和介电损耗等性能。陶瓷绝缘材料的主要用途见表4一5，其性能见表4一6。 陶瓷性能受到下面许多因素影响:主要成分的晶体类型，非主要成分组成，杂质，玻璃质中间物，气孔数最和分...

【技术文章】玻璃基片的性质 2014-02-20

玻璃是一种透明的具有平滑表面的稳定性材料，可以在小于5000温度下使用。玻璃的热性质和化学性质随其成分不同而有明显变化。如透明石英玻璃，其杂质总含量小于l00ppm，在0. 18拜 m-45m一波长范围内，其为透明状态，在20＇C~ 1000C温度范围内，...

【技术文章】薄膜制备中基片的选择 2014-02-12

在薄膜的制备过程中，除了薄膜沉积技术外，为了获得性能良好的薄膜及薄膜器件，还有不少特殊的技术需要掌握并熟练运用。 由于薄膜的厚度很小，一般都不能支持本体，而必须为它提供一个载体。理想的载体或“基片”除了要有足够的附着力以支持薄膜外，还不应与薄膜相互作用...

【技术文章】超薄有机薄膜的LB制备技术的概述 2014-02-08

LB(Langmuir- Blodgett)薄膜技术是一种精确控制薄膜厚度和分子结构的制膜技术。这种技术是20世纪30年代由美国科学家I. Langmuir及其学生K. Blodgett建立的一种单分子膜制备技术，即在水一气界面上将不溶解的分子加以紧密有序排...

【技术文章】水热电化学 2014-01-15

由于单独的水热法需要较高的温度和压力;而单独的电化学工艺由于电解槽不能很好地密封，某些类型的材料特别是钙铁矿型的介电陶瓷薄膜的制备尚有很大的困难，而且其电化学成膜的速率较低。因此，把水热法和电化学法有机结合起来，形成水热电化学方法是很有潜力的.目前，该方法已...

【技术文章】软溶液制备技术的基本原理 2014-01-10

为了既能大量地且对环境也友好地开发先进的功能材料，又能实现社会经济的可持续发展，不少研究者提出了新的工艺技术概念和选择新的工艺技术流程。日本东京工业大学的吉村昌弘(Masahiro Yoshimura)教授在多年研究陶瓷薄膜制备工艺技术的基础上于20世纪末提...

【技术文章】喷雾热分解法的改进技术 2014-01-06

为了改善SP法所制备薄膜的表面形貌和性能，主要的研究工作集中在如下三方面:一是改进气体的雾化技术，如脉冲间歇喷雾以及纳米射流;二是对源物质和溶剂的选择，改进气体的配制;三是采用新的加热沉积手段，如采用微波加热、热等离子体离化、冷等离子体气氛沉积等。 等...