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【技术文章】沉积态合金组织的形貌及选区电子衍射图 2014-05-31

图5一13(a)是沉积态合金组织的形貌及选区电子衍射图。这时，合金的形貌没有任何特征，相应的衍射图为一晕环。这表明薄膜的结构为非晶态的，其结构有序的范围不超过几个原子间距。但这还不能确定薄膜的结构是完全意义上的非晶态还是所谓的微晶结构.

【技术文章】非晶态薄膜材料的薄膜生长也可以采取柱状的生长方式 2014-05-29

非晶态薄膜材料的薄膜生长也可以采取柱状的生长方式。如Si、SiO2等材料在较低的温度下，都可以形成非晶的柱状结构。对Ge、Si等薄膜材料进行深入研究时，发现这类材料的柱状形貌的发育可以被划分为纳米级的、显微的，以及宏观的三种柱状组织。非晶态Ge薄膜中30%A...

【技术文章】材料形成非晶态的能力主要取决于其化学成分 2014-05-21

除了制备条件之外，材料形成非晶态的能力主要取决于其化学成分。一般来说金属元素不容易形成非晶态结构。这是因为金属原子间的键合不存在方向性，因而要抑制金属原子间形成有序排列，需要的过冷度较大。合金或化合物形成非晶态结构的倾向明显高于单一组元，因为化合物的结构一般...

【技术文章】非晶薄膜的生长特性 2014-05-16

非晶态是一种近程有序结构。就是在2个一3个原子距离内原子排列是有秩序的，大于这个距离其排列是杂乱无规则的。例如，非晶硅的每个原子仍为四价共价键，并且与最近邻原子构成四面体，仍是有规律的。非晶态的另一个特点是，其自由能比同种材料晶态的自由能高，即处于一种亚稳态...

【技术文章】外延薄膜的生长 2014-05-14

外延生长的基本参数之一是基片温度，对于基片与薄膜材料之间，都有一个临界外延温度，高于此温度的外延生长是良好的，而低于此温度的外延生长则是不完善的。此外，生长速率R与基片温度T有关。 如吸附原子在与另一个原子碰撞结合之前能进人稳定的平衡位置，...

【技术文章】溅射薄膜成膜过程 2014-05-12

从蒸发源或溅射靶中出来的沉积粒子到达基片表面之后，经过吸附、凝结、表面扩散、迁移、碰撞结合形成稳定晶核。然后再通过吸附使晶核长大成小岛，岛长大后互相联结聚集，*形成连续薄膜。在这样的成膜过程中，蒸发法和溅射法的主要区别是: 对于真空蒸发法，其入...

【技术文章】溅射薄膜的生长 2014-05-09

用溅射法制备薄膜时，到达基片的溅射粒子的能量比蒸发法的要大得多，因此会给薄膜的形成带来一系列的影响，除了使膜与基片的附着力增加外，还会由于高能离子轰击薄膜表面使其温度上升而改变薄膜的结构，或使薄膜内部应力增加等。溅射粒子的能量与溅射电压、基片与靶的距离、真空...

【技术文章】薄膜开关达到哪些标准 2014-05-08

使用寿命长达200万。 安全开关防尘防水，抗震性强，使用寿命长，适用于标准机械工程及卫生要求严格的领域。 所有产品系列的安全开关均满足欧洲和美国安全标准。 外形尺寸及接线方式多样化

【技术文章】连续膜阶段 2014-05-06

在沟渠和孔洞消除之后，再入射到基片表面上的气相原子便直接吸附在薄膜上、通过合并作用而形成不同结构的薄膜。有些薄膜在岛的合并阶段，小岛的取向就发生显著变化。对于外延薄膜的形成，其小岛的取向相当重要。在形成多晶薄膜时，除了在外延膜中小岛合并时必须有相互一定的取向...

【技术文章】薄膜的网络阶段 2014-05-04

在小岛合并为新岛的生长过程中，它的形状变为圆形的倾向减小，只是在新岛进一步合并的地方才继续发生较大的变形，当岛的分布达到临界状态时互相聚结形成一种网状结构。在这种结构中不规则的分布着宽度为50A-200A的沟渠，随着沉积的继续进行，在沟渠中会发生二次或三次成...