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   在薄膜的制备过程中，除了薄膜沉积技术外，为了获得性能良好的薄膜及薄膜器件，还有不少特殊的技术需要掌握并熟练运用。
   由于薄膜的厚度很小，一般都不能支持本体，而必须为它提供一个载体。理想的载体或“基片”除了要有足够的附着力以支持薄膜外，还不应与薄膜相互作用。另外基片必需与沉积工艺和随后的全部工艺以及应用薄膜需要的工艺相适应。此外，基片的成本也是需要考虑的。因此，一个理想基片所希望的性能如表4一1所列。由于基体需要机械强度高、电阻率高、热稳定性好，因此，一般用来制备薄膜的基片多为玻璃、陶瓷、单晶材料等。一般的金属、有机塑料、半导体材料等只能用于特定的条件下。