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   真空蒸发镀膜(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发容器中欲形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成燕气流，人射到固体(一般为衬底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸镀法的主要物理过程是通过加热使蒸发材料变成气态，故该法又称为热蒸发法。这是1857年首先由Farady采用的最简单的制膜方法，现在已获得广泛应用。近年来，该方法的改进主要集中在蒸发源上。为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热皿发生化学反应.改用耐热陶瓷柑祸，如氮化硼(BN)增祸;为了蒸发低燕气压物质.采用电子束加热源或激光加热源;为‘了制备成分复杂或多层复合薄膜，发展了多源共蒸发或顺序蒸发法;为了制备化合物薄膜或抑制薄膜成分对原材料的偏离，出现了反应蒸发方法等。