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在岛状生长模式下，到达基片上的原子首先凝聚成无数不连续的小核，后续飞来的原子不断集聚在核附近从而使核在三维方向不断成长，最终形成连续的薄膜。因此岛状生长模式又称为核生长模式。大部分薄膜的形成过程都属于这种生长类型。这种生长模式的过程如图5一7(a)所示。岛状生长模式的生长过程可以分成如下几个阶段。

1)成核阶段

到达基片上的原子，其中的一部分与基片原子交换能量后，仍具有相当大的能量，可以返回气相。而另一部分则被吸附在基片表面上.这种吸附主要是物理吸附，原子将在基片表面停留一定的时间。由于原子本身还具有一定的能量，同时还可以从基片得到热能，因此原子有可能在表面进行迁移或扩散。在这一过程中，原子有可能再蒸发、也可能与基片发生化学作用而形成化学吸附，还可能遇到其它的蒸发原子而形成原子对或原子团。

发生后两种情况时，原子再蒸发与迁移的可能性极小.从而逐渐成为稳定的凝聚核。

2)小岛阶段

当凝聚晶核达到一定的浓度以后，继续蒸发就不再形成新的晶核。新蒸发来的吸附原子通过表面迁移将聚集在已有晶核上，使晶核生长并形成小岛，这些小岛通常是三维结构，并且多数已具有该种物质的晶体结构，即已形成微晶粒。

3)网络阶段

随着小岛的长大，相邻的小岛会互相接触并彼此结合，结合的过程类似两小液滴结合成一个大液滴的情况，这是由于小岛在结合时释放出一定的能量，这些能量足以使相接触的微晶状小岛瞬时熔化，在结合以后，由于温度下降所生成的岛将重新结晶。随着小岛的不断结合，将形成一些具有迷津结构的网络状薄膜。

4)连续薄膜

随着蒸发或溅射的继续进行，吸附原子将填充岛与.岛之间的间隔，也有可能在岛与岛之间生成新的小岛，由小岛的生长来填充空沟道，*形成连续薄膜。

不同的物质经历这四个阶段的情况是不同的。例如铝膜和银膜都是岛状生长类型的，但是铝膜只有在生长的最初阶段呈现岛状结构，然后在薄膜很薄时就能形成连续薄膜.而银膜则要在薄膜较厚时才能形成连续薄膜。图5一8是Mos2基片上银膜形成过程
示意图，图5一8中(a)是晶核阶段，(b)是小岛阶段，(c)是网络阶段,(d)是沟道逐渐被填充而形成连续薄膜。