欢迎访问扬州欣达电子有限公司网站! 关于我们 联系我们

专注于薄膜开关,薄膜面板等研发与生产

安全省心,有效控制成本

img

咨询电话:

0514-86859177

img

咨询电话:

13805251384

您的位置:首页 > 新闻资讯 > 技术文章
PRODUCT CENTER
产品中心
行业资讯
企业动态
技术文章
咨询热线

0514-86859177

技术文章

薄膜制备方法

   按成膜机理分类,薄膜的制备方法可大致分为物理方法和化学方法两大类。

   物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)是利用某种物理过程,如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质从原物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积的主要特点是:

   (1)需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的原物质;